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氨三乙酸/氮三乙酸
Nitrilotriacetic acid
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產(chǎn)品詳情
使用說明
英文名稱:NTA;Nitrilotriacetic acid;N,N-Bis(carboxymethyl)glycine;Tri(carboxymethyl)amine;Triglycine;α,α′,α″-Trimethylaminetricarboxylic acid;Chelaton I;Trilon A
其他名稱:氨基三乙酸;氮三乙酸;N,N-雙(羧甲基)甘氨酸;三(羧甲基)胺;三甘氨酸;α,α′,α″-三甲基胺三羧酸;氨羧絡(luò)合劑I;絡(luò)合劑I;托立龍A;特里隆A;氮川三乙酸;次氮基三乙酸;次氨基三乙酸;N,N-二(羧甲基)甘氨酸;氮基三乙酸;氮川三乙酸氨羧絡(luò)合劑I
CAS號:139-13-9
C6H9NO6=191.14
級別:AR
含量:≥98.5%
含量:≥98.5%
氯化物:≤0.002%
硫酸鹽:≤0.002%
灼燒殘渣:≤0.1%
鐵:≤0.002%
銅:≤0.0005%
氨水溶解試驗:合格
性狀(以下信息僅供參考):白色粉末或顆粒。能與多種金屬離子形成絡(luò)合物。溶于氨水、氫氧化堿溶液,溶于乙醇,微溶于水(22.5℃時,1.28g溶于1L水),不溶于大多數(shù)有機(jī)溶劑。飽和水溶液pH為2.3。熔點230~235℃(分解)(也有文獻(xiàn)報道為241.5℃分解)。
用途:本品僅供科研,不得用于其它用途。(以下用途僅供參考)絡(luò)合劑。測定多種陽離子(常用于鈣、鎂、鐵等)。金屬掩蔽劑。絡(luò)合滴定鈷、銅、鈥、鈮、鎳、鉛和稀土金屬。彩電顯影。
保存:RT
用途:本品僅供科研,不得用于其它用途。(以下用途僅供參考)絡(luò)合劑。測定多種陽離子(常用于鈣、鎂、鐵等)。金屬掩蔽劑。絡(luò)合滴定鈷、銅、鈥、鈮、鎳、鉛和稀土金屬。彩電顯影。
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